[发明专利]活塞环有效
申请号: | 201610215890.7 | 申请日: | 2016-04-09 |
公开(公告)号: | CN105863870B | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 唐思钊 | 申请(专利权)人: | 唐思钊 |
主分类号: | F02F5/00 | 分类号: | F02F5/00;F16J9/20;F16J9/26;B32B15/01 |
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地址: | 100083 北京市朝阳区德*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 活塞环,包括上环体和下环体,所述上环体和下环体均开有交叉开口,所述上环体两端底面设有凸台,所述下环体两端顶面设有凹槽,所述凸台和凹槽配合连接,同时所述上环体下表面均匀设有若干凸杆,所述下环体上表面均匀设有若干小孔,所述凸杆可以插入小孔中形成连接,所述上环体和下环体内侧边缘还设有相互对称的半圆形凹槽,所述半圆形凹槽组合起来形成大凹槽,所述大凹槽内设有密封垫圈。该活塞环密封性好、耐磨性好、使用寿命长。 | ||
搜索关键词: | 活塞环 | ||
【主权项】:
1.活塞环,包括上环体和下环体,所述上环体和下环体均开有交叉开口,所述上环体两端底面设有凸台,所述下环体两端顶面设有凹槽,所述凸台和凹槽配合连接,同时所述上环体下表面均匀设有若干凸杆,所述下环体上表面均匀设有若干小孔,所述凸杆可以插入小孔中形成连接,所述上环体和下环体内侧边缘还设有相互对称的半圆形凹槽,所述半圆形凹槽组合起来形成大凹槽,所述大凹槽内设有密封垫圈;所述上环体和下环体表面设有多层结构;所述多层结构由基底层、周期性结构层和耐磨层组成;所述基底层为铬层或钛层或者铬钛合金层;所述周期性结构层的每一层均由元素M1和元素M2组成,其中M1选自铝、镁、锡,M2选自钛、钒、铌、钨;周期性结构层由M1和M2构成的合金层交替层叠构成,其中紧靠基底层的M1M2合金层中M2的质量百分含量在80%以上,其中靠近耐磨层的M1M2层中M1的质量百分含量在80%以上,在紧靠基底层的M1M2层和靠近耐磨层的M1M2层之间的其余周期性结构层,由里面向外面形成的M1M2层中每一层中M2的质量百分含量逐渐减少,M1的质量百分含量逐渐增加,其中基底层所在位置定义为里面,耐磨层所在位置定义为外面;多层由M1M2合金组成合金层构成周期性结构层;耐磨层由选自元素M3的氮化物或碳化物或碳氮化物组成,其中M3选自铬或钒或铬钒合金。
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