[发明专利]一种用于数字光刻系统的光强不均匀性测量与校正方法在审
| 申请号： | 201610216641.X | 申请日： | 2016-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN105652607A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 姜元清 | 申请（专利权）人： | 长春长光天辰光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 长春众益专利商标事务所(普通合伙) 22211 | 代理人： | 赵正 |
| 地址： | 130018 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于数字光刻系统的光强不均匀性测量与校正方法，属于光学技术领域，是利用积分球对CCD相机标定，将DMD物面分为N×N的矩形区域阵列，进而得到每一个矩形区域的光强分布，得到像面的整体光强分布图及DMD面上的整体光强分布，完成光强不均匀性的测量；获取一维光强分布，选取基准值获取所需关闭的像素及照明校正板，完成光强不均匀性的校正。本发明是对光强不均匀性的预先测量与校正，结合扫描曝光中对每个像素点的曝光次数的控制来实现的，保证最终的照明均匀度达到95%。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 数字 光刻 系统 不均匀 测量 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种用于数字光刻系统的光强不均匀性测量与校正方法，其特征在于由以下步骤实现：1)光强不均匀性的测量(1)利用积分球对CCD相机标定，以去除CCD随机噪声对测量结果的影响；(2)将DMD物面分为N×N的矩形区域阵列；(3)利用已标定的CCD相机在光刻系统的像面位置B次采集每一个矩形区域的光强信息，取B次采集结果的平均值，去除随机误差的影响，得到每一个矩形区域的光强分布；(4)将区域的光强分布图合并，得到像面的整体光强分布图；(5)将所合并的像面光强分布图，根据光刻物镜的放大倍率的倒数1/M，放大至DMD物面实际的矩形区域尺寸，得到DMD面上的整体光强分布；2)光强不均匀性的校正(1)各行叠加后，获取一维光强分布；(2)选取基准值对步骤(1)中叠加后的一维分布，取其最小值作为基准值；(3)获取所需关闭的像素(4)获取照明校正板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长春长光天辰光电科技有限公司，未经长春长光天辰光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610216641.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：处理盒、图像形成方法和电子照相设备
- 下一篇：压印装置及物品的制造方法
