[发明专利]带摆镜的中波红外像方扫描光学系统在审
申请号: | 201610217307.6 | 申请日: | 2016-04-08 |
公开(公告)号: | CN105759419A | 公开(公告)日: | 2016-07-13 |
发明(设计)人: | 林森;蔡伟;魏小林;周阳 | 申请(专利权)人: | 北京航天计量测试技术研究所;中国运载火箭技术研究院 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 任超 |
地址: | 100076 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 带摆镜的中波红外像方扫描光学系统,包括前置镜组1、摆镜2、固定反射镜3、成像镜组4,其中前置镜组包括前置镜A5、前置镜B6,光线经过前置镜A、前置镜B后聚焦到一次像面7上,再传递到摆镜上,其中一次像面的曲率中心与摆镜的回转中心重合,光线经摆镜反射后传递到固定反射镜上,固定反射镜最终将光线传递给成像镜组;通过摆镜的旋转,实现对目标的扫描。 | ||
搜索关键词: | 带摆镜 中波 红外 扫描 光学系统 | ||
【主权项】:
一种带摆镜的中波红外像方扫描光学系统,其特征在于:包括前置镜组(1)、摆镜(2)、固定反射镜(3)、成像镜组(4),其中前置镜组包括前置镜A(5)、前置镜B(6),光线经过前置镜A(5)、前置镜B(6)后聚焦到一次像面(7)上,再传递到摆镜(2)上,光线经摆镜(2)反射后传递到固定反射镜(3)上,固定反射镜(3)最终将光线传递给成像镜组(4);通过摆镜(2)的旋转,实现对目标的扫描。
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