[发明专利]一种低折射率氧化硅减反膜的制备方法在审
| 申请号： | 201610217496.7 | 申请日： | 2016-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN105776886A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 洪瑞江;袁野 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | C03C17/23 | 分类号： | C03C17/23;G02B1/113 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 曹爱红 |
| 地址： | 510275 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于光学器件技术领域，具体公开一种低折射率氧化硅减反膜的制备方法，具体制作步骤是：(1)配置初始碱性SiO2溶胶镀膜液；(2)添加乳化剂辛苯昔醇(曲拉通X‑100)；(3)在衬底表面制备薄膜；(4)薄膜热处理:通过高温过程去掉薄膜表面的乳化剂辛苯昔醇(曲拉通X‑100)，形成低折射率的薄膜。该制备方法操作简单，工艺过程简化，能精确控制制备出的氧化硅减反膜的折射率在1.170～1.120之间变化，折射率低且可控制，适用工业化生产的范围广，实用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 折射率 氧化 硅减反膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低折射率氧化硅减反膜的制备方法，其特征在于：具体制作步骤是，(1)配置初始碱性SiO2溶胶镀膜液：将正硅酸乙酯(TEOS)和无水乙醇(EtOH)混合搅拌，待溶液搅拌均匀后，缓慢滴加无水乙醇、去离子水、氨水的混合溶液，搅拌混合均匀后静置陈化；(2)添加乳化剂辛苯昔醇(曲拉通X‑100)：溶液经过陈化稳定后，在其中加入一定含量的乳化剂辛苯昔醇(曲拉通X‑100)，密封搅拌，使乳化剂辛苯昔醇(曲拉通X‑100)在溶液中均匀分散之后再次静置陈化；(3)在衬底表面制备薄膜：在洁净的玻璃片表面进行镀膜，形成均匀的氧化硅减反薄膜；(4)薄膜热处理:通过高温过程去掉薄膜表面的乳化剂辛苯昔醇(曲拉通X‑100)，形成低折射率的薄膜。
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