[发明专利]清洁刮板、处理盒和图像形成设备有效
| 申请号： | 201610217769.8 | 申请日： | 2016-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN106502073B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 中村优;太野大介;田中敬 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G21/00 | 分类号： | G03G21/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;肖轶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种清洁刮板、处理盒和图像形成设备，所述清洁刮板包括含有聚氨酯的聚氨酯构件，所述聚氨酯构件至少构成与待清洁构件接触的接触部分。通过红外光谱获得的所述聚氨酯构件的红外吸收光谱具有1.1以上的峰值强度比(A/B)，其中A表示因不形成氢键的羰基产生的出现在1,730cm‑1以上至1,740cm‑1以下的范围内的光谱峰的强度，并且B表示因形成氢键的羰基产生的出现在1,670cm‑1以上至1,720cm‑1以下的范围内光谱峰的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 处理 图像 形成 设备 | ||
【主权项】：
1.一种清洁刮板，所述清洁刮板包括：含有聚氨酯的聚氨酯构件，所述聚氨酯构件至少构成与待清洁构件接触的接触部分，其中通过红外光谱获得的所述聚氨酯构件的红外吸收光谱具有1.1以上的峰值强度比(A/B)，其中A表示因不形成氢键的羰基产生的出现在1,730cm‑1以上至1,740cm‑1以下的范围内的光谱峰的强度，并且B表示因形成氢键的羰基产生的出现在1,670cm‑1以上至1,720cm‑1以下的范围内的光谱峰的强度。
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