[发明专利]掩模以及利用其使有机发光显示设备的像素图案化的方法

摘要

公开了一种用于有机发光显示设备的像素图案化和像素位置检查的方法和用于有机发光显示设备的像素图案化掩模，其中该方法包括：使用第一掩模，在衬底上形成与第一像素图案和用于检查第一像素位置的第一像素定位图案对应的第一颜色薄膜层；使第一掩模从与形成第一颜色薄膜层相关联的位置移动确定间距；使经移动的第一掩模相对于衬底对准；以及使用经移动的第一掩模，在衬底上形成与第一像素图案和用于检查第一像素的位置的第一像素定位图案对应的第二颜色薄膜层。

主权项

一种用于有机发光显示设备的像素图案化和像素位置检查的方法，所述方法包括：使用第一掩模在衬底上形成第一颜色薄膜层，所述第一掩模包括第一像素图案和用于检查第一像素位置的第一像素定位图案，所述第一颜色薄膜层与所述第一像素图案和所述用于检查第一像素位置的第一像素定位图案相对应；使所述第一掩模从与形成所述第一颜色薄膜层关联的位置移动确定的间距；相对于所述衬底对准经移动的所述第一掩模；以及使用经移动的所述第一掩模在所述衬底上形成第二颜色薄膜层，所述第二颜色薄膜层与所述第一像素图案和用于检查第一像素位置的所述第一像素定位图案相对应。