[发明专利]一种等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201610221384.9 | 申请日： | 2016-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN107295738B | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 卫晶;韦刚;成晓阳;昌锡江 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 11726 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 左文;段志慧 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置包括腔体和射频电源，腔体接地，内衬套设在腔体内侧，且与腔体连接，射频电源用于向腔体内施加射频功率，以进行等离子体处理，射频功率经过等离子体与接地的腔体形成射频通路，还包括接地阻抗调节单元，接地阻抗调节单元串联连接于内衬和腔体之间，或者，接地阻抗调节单元串联连接于腔体和地之间，用于调节射频通路的接地阻抗。该等离子体处理装置能够调节射频通路的接地阻抗，使射频通路的接地阻抗能达到最小值，从而降低了射频功率的损耗，同时还避免了腔体内引入高频干扰电磁波，进而实现了射频功率的有效利用，同时还进一步提高了腔体的抗干扰性能和等离子体状态的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，包括腔体、内衬和射频电源，所述腔体接地，所述内衬套设在所述腔体内侧，且与所述腔体连接，所述射频电源用于向所述腔体内施加射频功率，以进行等离子体处理，所述射频功率经过所述等离子体与接地的所述腔体形成射频通路，其特征在于，还包括接地阻抗调节单元，所述接地阻抗调节单元串联连接于所述内衬和所述腔体之间，用于调节所述射频通路的接地阻抗。/n
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