[发明专利]一种射流真空排污系统在审
| 申请号： | 201610222201.5 | 申请日： | 2016-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN105888011A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 王圳 | 申请（专利权）人： | 王圳 |
| 主分类号： | E03D5/00 | 分类号： | E03D5/00;E03D5/10 |
| 代理公司： | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人： | 王淑玲 |
| 地址： | 100000 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种射流真空排污系统，包括：排污本体，所述排污本体上安装有供水管道，所述供水管道上设置有第一电磁阀；射流真空装置，所述射流真空装置安装在所述排污本体的输出端上；控制器，所述控制器分别与所述第一电磁阀和所述射流真空装置电连接。本发明的有益效果为：通过采用瞬时局部真空负压环境，能够使用少量的水达到高效的排污效果，而且该系统体积小，安装方便，操作简单，制造和维护成本较低，适用性更强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射流 真空 排污 系统 | ||
【主权项】：
一种射流真空排污系统，其特征在于，包括：排污本体(1)，所述排污本体(1)上安装有供水管道，所述供水管道上设置有第一电磁阀(6)；射流真空装置，所述射流真空装置安装在所述排污本体(1)的输出端上；控制器(2)，所述控制器(2)分别与所述第一电磁阀(6)和所述射流真空装置电连接。
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