[发明专利]纳米级规则褶皱结构的加工方法有效

专利信息
申请号: 201610224857.0 申请日: 2016-04-12
公开(公告)号: CN105905868B 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 张海霞;程晓亮;缪立明;苏宗明 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00;B82Y40/00
代理公司: 北京市商泰律师事务所11255 代理人: 毛燕生
地址: 100871 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种纳米级规则褶皱结构的加工方法。该方法主要包括选取并制备可拉伸基底材料,使用夹具将所述可拉伸基底材料进行预拉伸,利用氟基气体的等离子体刻蚀在所述预拉伸后的基底材料上生长氟碳聚合物材料,将生长了氟碳聚合物材料的基底材料释放,得到纳米级规则褶皱结构。本发明实施例采用在可拉伸基底材料上淀积氟碳聚合物方法制备褶皱结构,无需光刻工艺即可实现纳米级规则褶皱结构的加工制备,加工方法简单、稳定性好、并可大面积制造。本发明可以实现500nm以下褶皱结构的制备,此范围结构对材料本身透明度、反射率等参数影响很小,可极大提高其应用范围。
搜索关键词: 纳米 规则 褶皱 结构 加工 方法
【主权项】:
一种纳米级规则褶皱结构的加工方法,其特征在于,包括:选取并制备可拉伸基底材料;使用夹具将所述可拉伸基底材料进行预拉伸,具体包括:在培养皿中涂覆一层所述可拉伸基底材料,对所述培养皿以80℃加热30min使所述可拉伸基底材料固化;使用夹具将固化后的可拉伸基底材料进行预拉伸,拉伸比例为5%‑200%,所述预拉伸为单轴拉伸或者多轴拉伸;将预拉伸后的基底材料放入仪器腔内,利用氟基气体的等离子体刻蚀在预拉伸的基底材料上生长氟碳聚合物材料,所述氟基气体为氟基烷类气体,所述等离子体 刻蚀通过能够产生等离子体的设备实现,所述氟碳聚合物材料的厚度为1nm‑1μm;将生长了氟碳聚合物材料的基底材料释放,得到纳米级规则褶皱结构;将所述纳米级规则褶皱结构作为模具,将可拉伸基底基液按一定比例混合并去气泡,将去气泡后的基液涂覆于所述模具上,并加热;所述基液涂覆厚度为10μm‑5mm,所述加热温度为60℃‑150℃,加热时间为10min‑200min,将所述模具与基液凝固形成的膜分离开来,得到所述纳米级规则褶皱结构的相反结构。
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