[发明专利]一种大口径光学元件双面抛光机

摘要

本发明公开了一种大口径光学元件双面抛光机，属于光学元件加工技术领域。其采用既能摆动又能自转的上抛光盘结构，使上抛光盘同时对工件进行摆动抛光和环形抛光，提高了抛光效率，并且使抛光轨迹更加均匀，解决了面形易发生踏边、翘角的问题；下抛光盘对工件下表面进行环形抛光，采用校正盘对下抛光盘面形进行修正保持，提高抛光盘面形精度，从而提高光学元件面形精度，减小光学表面小尺寸制造误差；采用可调节卡钳结构，增加可调节工艺参数，进一步使抛光轨迹均匀，提高双面抛光精度和生产效率；本发明适用于口径达到600mm，对平行度、反射波前和透射波前有特殊要求的大口径光学元件双面抛光。

主权项

一种大口径光学元件双面抛光机，包括：上抛光盘、主摆杆、副摆杆、偏心轮、偏心轮机座、上抛光盘自转轴、上抛光盘驱动电机、校正盘、校正盘卡钳、校正盘驱动电机、工件环、工件环卡钳、工件环驱动电机、下抛光盘、主机座；其中，主摆杆、副摆杆、偏心轮、偏心轮机座组成上抛光盘摆动结构，为上抛光盘提供摆动运动；主摆杆一末端设置有上抛光盘自转轴、上抛光盘驱动电机，上抛光盘驱动电机驱动上抛光盘自转轴转动，为上抛光盘提供自转运动；校正盘位于下抛光盘面上，通过校正盘卡钳限位，校正盘卡钳上设置有校正盘卡钳驱动电机，用于驱动校正盘自转；工件环位于下抛光盘面上，通过工件环卡钳限位，工件环卡钳上设置有工件环驱动电机，用于驱动工件环自转；主机座连接下抛光盘，驱动下抛光盘沿逆时针方向自转。