[发明专利]TFT基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201610228341.3 申请日: 2016-04-13
公开(公告)号: CN105702687A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 王涛 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种TFT基板及其制作方法,该TFT基板通过对TFT(400)中的有源层(410)的结构进行改进,使得有源层(410)的两侧均具有至少一个台阶,相比于现有技术中的有源层,能够有效减弱有源层(410)两侧的尖端电场集中效应,使有源层(410)中载流子的浓度均匀,控制TFT(400)的输出电性,TFT(400)的质量高,TFT基板的工作稳定性强。本发明的TFT基板的制作方法,能够有效减弱TFT(400)中有源层(410)两侧的尖端电场集中效应,使有源层(410)中的载流子浓度均匀,控制TFT(400)的输出电性,TFT(400)的质量高,TFT基板的工作稳定性强。
搜索关键词: tft 及其 制作方法
【主权项】:
一种TFT基板,其特征在于,包括:衬底基板(100)、及设置在所述衬底基板(100)上的TFT(400);所述TFT(400)包括:有源层(410)、设置在所述有源层(410)上的栅极绝缘层(420)、设置在所述栅极绝缘层(420)上且水平位置与有源层(410)对应的栅极(430)、设置在所述栅极(430)及栅极绝缘层(420)上的层间介电层(440)、及设置在所述层间介电层(440)上的源极(450)及漏极(460);沿所述栅极(430)的长度方向,所述有源层(410)至少包括位于中间的第一区域(411)、及位于所述第一区域(411)两侧的第二区域(412),且所述第一区域(411)的厚度大于第二区域(412)的厚度,使得所述有源层(410)的两侧均具有至少一个台阶。
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