[发明专利]TFT基板及其制作方法在审
申请号: | 201610228341.3 | 申请日: | 2016-04-13 |
公开(公告)号: | CN105702687A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 王涛 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种TFT基板及其制作方法,该TFT基板通过对TFT(400)中的有源层(410)的结构进行改进,使得有源层(410)的两侧均具有至少一个台阶,相比于现有技术中的有源层,能够有效减弱有源层(410)两侧的尖端电场集中效应,使有源层(410)中载流子的浓度均匀,控制TFT(400)的输出电性,TFT(400)的质量高,TFT基板的工作稳定性强。本发明的TFT基板的制作方法,能够有效减弱TFT(400)中有源层(410)两侧的尖端电场集中效应,使有源层(410)中的载流子浓度均匀,控制TFT(400)的输出电性,TFT(400)的质量高,TFT基板的工作稳定性强。 | ||
搜索关键词: | tft 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种TFT基板,其特征在于,包括:衬底基板(100)、及设置在所述衬底基板(100)上的TFT(400);所述TFT(400)包括:有源层(410)、设置在所述有源层(410)上的栅极绝缘层(420)、设置在所述栅极绝缘层(420)上且水平位置与有源层(410)对应的栅极(430)、设置在所述栅极(430)及栅极绝缘层(420)上的层间介电层(440)、及设置在所述层间介电层(440)上的源极(450)及漏极(460);沿所述栅极(430)的长度方向,所述有源层(410)至少包括位于中间的第一区域(411)、及位于所述第一区域(411)两侧的第二区域(412),且所述第一区域(411)的厚度大于第二区域(412)的厚度,使得所述有源层(410)的两侧均具有至少一个台阶。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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