[发明专利]一种金刚烷修饰的近红外氟硼二吡咯光敏剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201610229631.X | 申请日： | 2016-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN105833271B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 王晓军;许加龙;李秋艳 | 申请（专利权）人： | 江苏师范大学 |
| 主分类号： | A61K41/00 | 分类号： | A61K41/00;A61P35/00;C07F5/02 |
| 代理公司： | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人： | 李桂存 |
| 地址： | 221116 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开一种金刚烷修饰的近红外氟硼二吡咯光敏剂及其制备方法。本发明金刚烷修饰的近红外氟硼二吡咯光敏剂，结构如通式（I）所示，通过R1、R2和R3位取代基的不同，实现最大吸收波长、光诱导电子转移、生物相容性、水中分散能力的调控。根据重原子效应，在氟硼吡咯化合物中引入碘原子，能够显著提高其激发三重态性能；在氟硼吡咯化合物3，5位引入取代基，能够使氟硼吡咯化合物最大吸收波长红移，同时聚乙二醇链的引入能够提高其生物相容性。 |
||
| 搜索关键词： | 一种 金刚 修饰 红外 氟硼二 吡咯 光敏剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金刚烷修饰的近红外氟硼二吡咯光敏剂，其结构如通式（I）所示，![]()
式中，R1为AdCONH(CH2CH2O)2、(OCH2CH2)nCH2CH2N3、H、F、Cl、Br、I、CN、C1‑12的烷基、苯基、萘基、环烷基或烯丙基，其中n=1‑12；R2和R3定义同R1，R1、R2和R3相同或者不同，且取代基R1、R2和R3中至少一个为AdCONH(CH2CH2O)2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏师范大学，未经江苏师范大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610229631.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：可对焊接工件进行自动冷却的激光焊头结构
- 下一篇：超声波焊接机及其升降装置
