[发明专利]波导结构及制备方法有效
申请号: | 201610230457.0 | 申请日: | 2016-04-13 |
公开(公告)号: | CN107290824B | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 周立兵;李唯实 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | G02B6/122 | 分类号: | G02B6/122;G02B6/12;G02B6/136;G02B6/26 |
代理公司: | 44202 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种波导结构,包括硅衬底层、硅波导层、第一二氧化硅层、硅化物波导层以及第二二氧化硅层,硅衬底层、硅波导层、第一二氧化硅层、硅化物波导层以及第二二氧化硅层依次层叠覆盖,硅波导层为锥形波导层,硅波导层和硅化物波导层通过倏逝波耦合,硅化物波导层包括多个第一波导块和多个第二波导块,第一波导块材质与硅化物波导层材质相同,第二波导块材质的折射率低于第一波导块材质的折射率,多个第一波导块和多个第二波导块的尺寸沿波导结构的出光方向逐渐变大,光信号通过倏逝波从硅波导层进入硅化物波导层。采用本发明实施例可扩大波导光斑尺寸,使得与光纤纤芯的模斑尺寸匹配。 | ||
搜索关键词: | 波导 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种波导结构,其特征在于,包括:/n硅衬底层、硅波导层、第一二氧化硅层、硅化物波导层以及第二二氧化硅层,所述硅衬底层、所述硅波导层、所述第一二氧化硅层、所述硅化物波导层以及所述第二二氧化硅层依次层叠覆盖,/n所述硅波导层为锥形波导层,所述硅波导层和所述硅化物波导层通过倏逝波耦合,所述硅化物波导层包括多个第一波导块和多个第二波导块,所述第二波导块材质的折射率低于所述第一波导块材质的折射率,所述多个第一波导块和所述多个第二波导块的尺寸沿所述波导结构的出光方向逐渐变大,光信号通过倏逝波从所述硅波导层进入所述硅化物波导层。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610230457.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种包层光滤除器的制造方法
- 下一篇:基于双锥组合结构的模式转换器