[发明专利]一种硅片生产过程中含氢氧化钠废水的回收方法有效
| 申请号： | 201610234968.X | 申请日： | 2016-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN105668862B | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 林淑录 | 申请（专利权）人： | 林淑录 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04;C01D1/42;C02F1/44;C02F1/28 |
| 代理公司： | 北京阳光天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11671 | 代理人： | 赵飞 |
| 地址： | 325000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片生产过程中含氢氧化钠废水的回收方法，采用沉淀过滤后膜技术处理的方法回收氢氧化钠，膜技术为采用微滤膜除杂后用反渗透膜浓缩，得到回收的氢氧化钠溶液；采用沉淀过滤为：将含氢氧化钠废水送入调节池内，沉淀后过滤；调节池为密封型调节池，调节池为多池组合联用，每组3池～5池，调节池含有空气净化装置，含氢氧化钠废水分批次进入调节池，每批次每池100t～200t废水，沉淀过滤采用双层滤料过滤，沉淀的方式为静置沉淀1天～2天。本发明方法操作简单、节约水资源、降低生产成本、易于推广，同时不污染大气。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 生产过程 氢氧化钠 废水 回收 方法 | ||
【主权项】：
1.一种硅片生产过程中含氢氧化钠废水的回收方法，其特征在于，采用沉淀过滤后膜技术处理的方法回收氢氧化钠，所述膜技术为采用微滤膜除杂后用反渗透膜浓缩，得到回收的氢氧化钠溶液；所述采用沉淀过滤为：将含氢氧化钠废水送入调节池内，沉淀后过滤；所述调节池为密封型调节池，所述调节池为多池组合联用，每组3池～5池，所述调节池含有空气净化装置，所述含氢氧化钠废水分批次进入调节池，每批次每池100t～200t废水，所述沉淀过滤采用双层滤料过滤，所述沉淀的方式为静置沉淀1天～2天，所述双层滤料为：下层是石英砂或活性炭，粒径为0.4mm～0.8mm、厚为40cm，上层为无烟煤或河沙，粒径为1.0mm～1.6mm、厚为55cm；所述微滤膜的膜组件为卷式膜；所述微滤膜除杂为：采用孔径为0.2μm～0.9μm的微滤膜在1.5Mpa～2.0Mpa、30℃～40℃条件下进行除杂；所述微滤膜的膜材料为聚偏氟乙烯滤膜；所述反渗透膜浓缩为：采用孔径为5nm的反渗透膜在1.4Mpa～1.6Mpa、30℃～40℃条件下进行浓缩；所述反渗透膜为醋酸纤维素膜材料的反渗透膜；所述过滤的滤速为8m/h。
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