[发明专利]一种高温薄膜应变计及其制作方法

摘要

本发明公开了一种高温薄膜应变计及其制作方法，包括SiO2绝缘薄膜、应变计敏感栅薄膜、敏感栅遮挡薄膜、焊盘遮挡薄膜，所述应变计敏感栅的区域覆盖有敏感栅遮挡薄膜，所述应变计敏感栅以外的区域覆盖有焊盘遮挡薄膜，所述应变计敏感栅为NiCr合金敏感栅，所述敏感栅遮挡薄膜为SiOxNy薄膜，所述焊盘遮挡薄膜为ITO薄膜。本发明采用SiOxNy薄膜作为薄膜应变计的抗氧化保护薄膜，因而延长了薄膜应变计的寿命；ITO薄膜作为焊盘部分的保护膜，有效的提高了薄膜应变计在高温工作环境下的可靠性和寿命；本发明制备的NiCr高温薄膜应变计在600℃范围内其结构、物理性能均不改变，具有良好的应力应变测试性能。

主权项

1.一种高温薄膜应变计的制作方法，包括以下步骤：步骤1：依次采用无水乙醇、丙酮对合金基板表面进行清洗；步骤2：在经过清洗的铜合基板金的表面制备SiO2绝缘薄膜；步骤3：在已经沉积SiO2绝缘薄膜的铜合金基板上旋涂光刻胶，图形化应变计图形；步骤4：在步骤3的基础上采用磁控溅射的方法制备NiCr功能薄膜，去除光刻胶得到应变计敏感栅薄膜；步骤5：在步骤4形成的图形上旋涂光刻胶，图形化敏感栅遮挡薄膜，磁控溅射SiOxNy薄膜，去除光刻胶，得到敏感栅遮挡薄膜；步骤6：在步骤5形成的图形上旋涂光刻胶，图形化焊盘遮挡薄膜，磁控溅射ITO薄膜，去除光刻胶，得到焊盘遮挡薄膜。