[发明专利]膜沉积装置和膜沉积方法在审
| 申请号： | 201610245080.6 | 申请日： | 2016-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN106065464A | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | 村上泰夫;星野和弘;佐藤亨;竹见崇;中村谕;熊木智洋 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社;佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 曾琳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本公开内容涉及膜沉积装置和膜沉积方法。膜沉积装置包括：真空室；圆柱靶，该靶的圆周面与基板相对，并且该靶在真空室中被设置为与基板的传送方向相交；驱动单元，其被配置为旋转地驱动靶；磁场产生器，其设置在靶的内侧；反应性气体流出单元，其被配置为流出反应性气体，该反应性气体流出单元设置在靶的附近；光发射监视器，其被配置为监视在基板和靶之间的位置处且在靶附近的等离子体的光发射强度；以及控制单元，其被配置为控制由驱动单元驱动的靶的旋转速度，以使得由光发射监视器监视的光发射强度接近预设的目标光发射强度。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种膜沉积装置，其特征在于，包括：真空室；圆柱靶，所述靶的圆周面与基板相对，并且所述靶设置在真空室中以与基板的传送方向相交；驱动单元，所述驱动单元被配置为旋转地驱动所述靶；磁场产生器，所述磁场产生器设置在所述靶的内侧；以及反应性气体流出单元，所述反应性气体流出单元被配置为流出反应性气体，所述反应性气体流出单元设置在所述靶的附近，其中，所述膜沉积装置还包括：光发射监视器，所述光发射监视器被配置为监视在基板和所述靶之间的位置处且在所述靶附近的等离子体的光发射强度，以及控制单元，所述控制单元被配置为控制由所述驱动单元驱动的所述靶的旋转速度，以使得由所述光发射监视器监视的光发射强度接近预设的目标光发射强度。
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