[发明专利]一种达标地表水Ⅳ类之改良氧化沟工艺有效

专利信息
申请号: 201610245877.6 申请日: 2016-04-20
公开(公告)号: CN105776541B 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 张静;勾全增;汝小瑞;侯红勋;朱甲华 申请(专利权)人: 安徽国祯环保节能科技股份有限公司
主分类号: C02F3/30 分类号: C02F3/30;C02F3/12
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 孙永刚
地址: 230088 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种达标地表水Ⅳ类之改良氧化沟工艺,包括以下步骤:预处理;预处理后的污水依次排入厌氧池、缺氧池、表面曝气氧化沟、末端缺氧区、端好氧区;二沉池固液分离;二沉池排出的上清液进入混凝反应池,混凝反应池出水进入反硝化滤池;消毒后排放。本发明在表面曝气氧化沟前端设置了厌氧池用于生物除磷,缺氧池用于回流表面曝气氧化沟末端含有的硝态氮混合液进行反硝化除氮;表面曝气氧化沟后端设置了缺氧区,并外加碳源,用于进一步去除氧化沟出水中含有的硝态氮;缺氧区后设置了好氧区,用于消耗残留的多余有机物;充分利用原水碳源进行氧化沟工艺的前置反硝化脱氮,能够确保Ⅳ类水出水标准的稳定实现。
搜索关键词: 一种 达标 地表水 改良 氧化 工艺
【主权项】:
1.一种达标地表水Ⅳ类之改良氧化沟工艺,其特征在于,所述工艺包括以下步骤:(1)污水经过预处理沉淀去除水中的悬浮物SS;所述预处理步骤为污水经过沉砂池或沉淀池进行初步沉淀;(2)预处理后的污水排入厌氧池,所述厌氧池出水进入缺氧池,所述缺氧池出水进入表面曝气氧化沟,所述表面曝气氧化沟出水一部分回流到缺氧池,一部分进入末端缺氧区,所述末端缺氧区出水进入末端好氧区;所述末端缺氧区投加碳源,利用碳源将表面曝气氧化沟出水中含有的硝态氮进行反硝化反应转化成氮气去除;(3)末端好氧区出水进入二沉池,实现固液分离,沉淀的污泥一部分回流到厌氧池,一部分作为剩余污泥排放;(4)二沉池排出的上清液进入混凝反应池,进行化学除磷,混凝反应池出水进入反硝化滤池进一步去除残留的硝态氮;所述混凝反应池投加化学除磷药剂,所述化学除磷投加药剂为铁盐或者铝盐;(5)反硝化滤池出水进入消毒池进行消毒后排放。
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