[发明专利]沉积源及其制造方法有效
| 申请号： | 201610246608.1 | 申请日： | 2016-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN106560524B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 朴国喆;金陶煐;鲁硕原;尹振硕 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了沉积源及其制造方法。作为示例，沉积源包括：坩埚，配置成其上侧被开口并且将沉积物质收容在其内部；加热器，布置在所述坩埚的外侧；以及喷嘴部，配置成结合至所述坩埚的被开口的上侧，并且其内面被研磨处理。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
沉积源，包括：坩埚，配置成其上侧被开口并且将沉积物质收容在其内部；加热器，布置在所述坩埚的外侧；以及喷嘴部，配置成结合至所述坩埚的被开口的上侧并且其内面被研磨处理。
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