[发明专利]反应腔室及半导体加工设备有效
| 申请号： | 201610246619.X | 申请日： | 2016-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN107304473B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 李冬冬 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供的反应腔室及半导体加工设备，其包括托盘、基座遮挡板和支撑件，其中，托盘用于承载多个晶片。基座用于承载托盘，且该基座是可升降的，以上升至工艺位置进行工艺，或者下降至装卸位置进行取放托盘的操作。遮挡板在基座位于工艺位置时，置于托盘上，且在遮挡板上设置有多个通孔，多个通孔与托盘上的多个晶片一一对应，遮挡板用于遮挡托盘的无晶片区域。支撑件用于在基座离开工艺位置时，支撑遮挡板，以使遮挡板与托盘相分离。本发明提供的反应腔室，其可以避免在对晶片进行预清洗时，晶片表面被污染的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种反应腔室，包括托盘和基座，所述托盘用于承载多个晶片；所述基座用于承载所述托盘，且所述基座是可升降的，以上升至工艺位置进行工艺，或者下降至装卸位置进行取放所述托盘的操作，其特征在于，还包括遮挡板和支撑件，其中，所述遮挡板在所述基座位于所述工艺位置时，置于所述托盘上，且在所述遮挡板上设置有多个通孔，所述多个通孔与所述托盘上的多个晶片一一对应，所述遮挡板用于遮挡所述托盘的无晶片区域；所述支撑件用于在所述基座离开所述工艺位置时，支撑所述遮挡板，以使所述遮挡板与所述托盘相分离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610246619.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
