[发明专利]一种环保型半导体硅片清洗剂及其清洗方法在审
| 申请号： | 201610246999.7 | 申请日： | 2016-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN107304385A | 公开（公告）日： | 2017-10-31 |
| 发明（设计）人： | 仲跻和 | 申请（专利权）人： | 江苏天恒纳米科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/825 | 分类号： | C11D1/825;C11D3/60;C11D3/04;C11D3/33;C11D3/08;H01L21/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226601 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种环保型半导体硅片清洗剂及其清洗方法，每100g清洗剂中以下重量份的原料组成非离子表面活性剂0.1‑5g；渗透剂0.1‑5g；pH调节剂0.2‑10g；螯合剂0.2‑1g；余量为去离子水。本发明含有各种表面活性剂，同时添加有机碱，能有效去除硅研磨片表面残留的各种有机物、金属离子和吸附粒子，保证清洗的均一性，且清洗后硅片不会出现花状表面，使用寿命长，而且无金属污染，无毒，无腐蚀性，属于环保型产品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 环保 半导体 硅片 洗剂 及其 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种环保型半导体硅片清洗剂，其特征在于：每100g清洗剂中以下重量份的原料组成：
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