[发明专利]反熔丝型一次编程的记忆胞及其相关的阵列结构有效

专利信息
申请号: 201610248436.1 申请日: 2016-04-20
公开(公告)号: CN106469727B 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 翁伟哲;吴孟益 申请(专利权)人: 力旺电子股份有限公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王珊珊
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种反熔丝型一次编程的记忆胞及其相关的阵列结构。该记忆胞具有以下的结构。形成于一井区的一第一掺杂区、一第二掺杂区、一第三掺杂区与一第四掺杂区。一栅极氧化层,覆盖于该井区的该表面。一第一栅极,形成于该第一掺杂区与该第二掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第一栅极连接至一字线。一第二栅极,形成于该第二掺杂区与该第三掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第二栅极连接至一反熔丝控制线。一第三栅极,形成于该第三掺杂区与该第四掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第三栅极连接至一隔离控制线。
搜索关键词: 反熔丝型 一次 编程 记忆 及其 相关 阵列 结构
【主权项】:
1.一种反熔丝型一次编程的记忆胞,包括:井区;第一掺杂区、第二掺杂区、第三掺杂区与第四掺杂区,形成于该井区的表面;栅极氧化层,覆盖于该井区的该表面;第一栅极,形成于该第一掺杂区与该第二掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第一栅极连接至字线;第二栅极,形成于该第二掺杂区与该第三掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第二栅极连接至反熔丝控制线;第三栅极,形成于该第三掺杂区与该第四掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第三栅极连接至隔离控制线;以及第一金属层,经由穿透洞连接至该第一掺杂区,且该第一金属层为位线。
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