[发明专利]送液性得到改善的光刻用药液及包含其的抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 201610249101.1 | 申请日： | 2016-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN106066576B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 米村幸治;染谷康夫;尹得荣 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种既能降低光刻用组合物的粘度从而改善送液性、又能够形成作为目标的厚度均匀的厚膜的光刻用药液，并且提供包含该光刻用药液的抗蚀剂组合物。上述课题的解决手段为：以膜厚成为5μm以上的方式，利用旋涂法涂布含有具有规定范围内的饱和蒸气压及粘度的溶剂和树脂的光刻用药液。 | ||
| 搜索关键词： | 送液性 得到 改善 光刻 用药 包含 抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
一种光刻用药液，其用于利用旋涂法形成膜，所述光刻用药液含有树脂成分(A)和有机溶剂(S)，所述树脂成分(A)的重均分子量(Mw)为2000～50000的范围，所述有机溶剂(S)的饱和蒸气压为1kPa(1个标准大气压、20℃)以上，并且粘度为1.1cP(1个标准大气压、20℃)以下。
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