[发明专利]一种金属-硫属半导体材料、其制备方法和用途在审
申请号: | 201610250033.0 | 申请日: | 2016-04-20 |
公开(公告)号: | CN105923612A | 公开(公告)日: | 2016-09-07 |
发明(设计)人: | 何佳清;谢晓滨;林京洋;冯丹 | 申请(专利权)人: | 南方科技大学 |
主分类号: | C01B19/04 | 分类号: | C01B19/04;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋;侯潇潇 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种金属‑硫属半导体材料、其制备方法和用途,该金属‑硫属半导体材料包括金属‑硫属半导体晶体,金属‑硫属半导体晶体的三维尺度至少一个尺度为1‑100纳米,金属‑硫属半导体晶体为纳米片或纳米立方体,纳米片具有原子级厚度,纳米立方体暴露晶面为{100}晶面。所述金属‑硫属半导体材料属于纳米半导体晶体材料,粒径均一,形貌及大小可控,性能好,其制备方法所需的原料物种较少,反应条件温和,产率高,适于工业化应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 半导体材料 制备 方法 用途 | ||
【主权项】:
一种金属‑硫属半导体材料,包括金属‑硫属半导体晶体,其特征在于,所述金属‑硫属半导体晶体的三维尺度至少一个尺度为1‑100纳米,所述金属‑硫属半导体晶体为纳米片或纳米立方体,所述纳米片具有原子级厚度,所述纳米立方体暴露晶面为{100}晶面。
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