[发明专利]一种浸没式光刻系统和浸没流场维持方法有效
| 申请号： | 201610255529.7 | 申请日： | 2016-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN107305318B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 丛国栋;郑清泉;吴立伟 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种浸没式光刻系统和浸没流场维持方法，通过在浸没头中设置浸没液固化装置，在曝光过程中，浸没液固化装置将浸没头与所述硅片之间的浸没液固化形成密封墙，所述浸没头、所述密封墙和所述硅片形成盛放容器并盛放所述浸没液，在密封墙内的浸没液形成了介质，投影物镜镜头与硅片之间维持着液体的浸没液场；在曝光完成之后，浸没液固化装置将所有与硅片接触的浸没液固化，从而当硅片从工件台上移出后，浸没液不会因为重力作用下落，当工件台上上载新的未曝光的硅片后，将固化的浸没液与硅片接触，然后浸没液固化装置使固化的浸没液液化，继续下一轮曝光，因此这种装置和工艺在更换硅片后无需重新建立液场，节省了时间，提高了光刻效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浸没 光刻 系统 维持 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸没式光刻系统，从上至下依次包括一投影物镜；一工作台，工作台上放置有硅片；一浸没头，设置在所述投影物镜和所述硅片之间，在所述浸没头、投影物镜及硅片之间填充有浸没液；其特征在于，所述浸没头中设置有浸没液固化装置，在所述硅片曝光时将曝光场边缘及以外的浸没液固化；在所述硅片曝光完成后，所述浸没液固化装置固化所述硅片上表面与所述浸没头之间的浸没液。
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