[发明专利]具有注射器的膜形成装置和形成半导体器件的方法

摘要

本公开提供了一种薄膜形成装置和形成半导体器件的方法。该薄膜形成装置包括注射器，该注射器包括：分配器，包括连接到第一进气口的第一分配部分以及连接到第二进气口的第二分配部分；以及引导件，连接到分配器，该引导件包括连接到第一分配部分的第一出口以及连接到第二分配部分的第二出口，其中第二出口设置在第一出口上方。

主权项

1.一种薄膜形成装置，包括：注射器，所述注射器包括：主体，在第一方向上纵向延伸，所述主体包括第一进气口、在基本上垂直于所述第一方向的第二方向上设置在所述第一进气口上方的第二进气口、以及与所述第一进气口和所述第二进气口间隔开的气帘气进口；第一分配器，包括连接到所述第一进气口的第一分配部分以及连接到所述第二进气口的第二分配部分；第二分配器，挨着所述第一分配器，所述第二分配器包括连接到所述气帘气进口的气帘气分配部分；第一引导件，连接到所述第一分配器，所述第一引导件包括连接到所述第一分配部分的第一出口以及连接到所述第二分配部分的第二出口，所述第二出口在所述第二方向上设置在所述第一出口上方，其中所述第一出口暴露于腔室并且被配置为将载气直接提供到腔室中，所述第二出口暴露于腔室并且被配置为将反应气体直接提供到腔室中；以及第二引导件，连接到所述第二分配器，所述第二引导件包括连接到所述气帘气分配部分的气帘气出口。