[发明专利]双氨基烷氧基硅烷化合物和使用其沉积含硅膜的方法有效
| 申请号： | 201610256473.7 | 申请日： | 2016-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN105906660B | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | D·P·斯潘斯;雷新建;R·M·佩尔斯泰恩;萧满超;李建恒 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | C07F7/18 | 分类号： | C07F7/18;C23C16/30;C23C16/40;C23C16/36;C23C16/34 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文描述式I的双氨基烷氧基硅烷以及其使用方法：R1Si(NR2R3)(NR4R5)OR6 I其中R1选自氢、C1至C10直链烷基、C3至C10支链烷基、C3至C10环烷基、C2至C10烯基、C2至C10炔基、C4至C10芳族烃基；R2、R3、R4和R5各自独立地选自氢、C4至C10支链烷基、C3至C10环烷基、C2至C10烯基、C2至C10炔基和C4至C10芳族烃基；R6选自C1至C10直链烷基、C3至C10支链烷基、C3至C10环烷基、C2至C10烯基、C2至C10炔基和C4至C10芳族烃基。 | ||
| 搜索关键词： | 氨基 烷氧基 硅烷 化合物 使用 沉积 含硅膜 方法 | ||
【主权项】：
1.具有式I的双氨基烷氧基硅烷化合物：R1Si(NR2R3)(NR4R5)OR6 I其中R1选自氢原子、C1至C10直链烷基、C3至C10支链烷基、C3至C10环烷基、C3至C10烯基、C3至C10炔基、C4至C10芳族烃基；R2和R4各自为氢原子；R3和R5各自独立地选自C4至C10支链烷基；R6选自C1至C10直链烷基、C3至C10支链烷基、C3至C10环烷基、C3至C10烯基、C2至C10炔基和C4至C10芳族烃基。
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