[发明专利]抛光液均匀流动的抛光垫有效
| 申请号： | 201610257309.8 | 申请日： | 2016-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN105856063B | 公开（公告）日： | 2017-09-15 |
| 发明（设计）人： | 李军;花成旭;唐咏凯;朱永伟;左敦稳;王维;曹远远 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司32218 | 代理人： | 瞿网兰 |
| 地址： | 210016 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种抛光液均匀流动的抛光垫，它包括内环面（1）和外环面（2），外环面（2）的半径不超过内环面（1）半径的四倍，其特征是在内环面（1）和外环面（2）之间的加工表面上设有凹槽区（3），凹槽区（3）上设有若干数量相等、旋向相反的凹槽（4）；所述凹槽（4）的形状满足一定的数学关系。本发明的抛光液能实现均匀流动，明显提高加工质量。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 均匀 流动 | ||
【主权项】：
一种抛光液均匀流动的抛光垫，它包括内环面(1)和外环面(2)，外环面(2)的半径不超过内环面(1)半径的四倍，其特征是在内环面(1)和外环面(2)之间的加工表面上设有凹槽区(3)，凹槽区(3)上设有若干数量相等、旋向相反的凹槽(4)；所述凹槽(4)的形状满足以下关系：θ1=(rr0)2-1-tan-1((rr0)2-1)]]>θ2=-(rr0)2-1+tan-1((rr0)2-1)]]>式中r0为凹槽(4)终点相对于抛光垫中心的距离，r为凹槽上某一点到抛光垫中心的距离，θ1表示逆时针展成凹槽的极角，θ2表示顺时针展成凹槽的极角。
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