[发明专利]一种三维表面顺形或共形图案的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610257442.3 申请日: 2016-04-25
公开(公告)号: CN105905867B 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 吴志刚;彭鹏;张硕 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: B81C3/00 分类号: B81C3/00;H01Q1/38
代理公司: 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙)42224 代理人: 李佑宏
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种三维表面顺形或共形图案的制备方法,属于微制造领域。其包括S1将薄膜粘附在辅助基底上;S2采用激光、切割或者蚀刻方式将薄膜加工成预定的图案,获得图案化薄膜辅助基底;S3在塑料薄膜上添加缓冲层;S4使图案化薄膜接触并粘结在所述缓冲层上;S5分离出辅助基底;S6对图案化薄膜目标基底加热,待塑料薄膜塑性增大至可在压力下变形后,将图案化薄膜目标基底移至三维模具上,利用真空压力吸附或高压,使图案化薄膜目标基底变形后贴附在三维模具表面,成为与三维模具表面形貌相同的三维表面顺形或共形图案系统。本发明方法提高了三维表面顺形或共形图案的生产效率、降低了其生产成本。
搜索关键词: 一种 三维 表面 图案 制备 方法
【主权项】:
一种三维表面顺形或共形图案的制备方法,其特征在于,其包括如下步骤:S1:将薄膜粘附在辅助基底上;S2:采用激光、切割机切割或者蚀刻将所述薄膜加工成预定的图案,获得图案化薄膜辅助基底;S3:在塑料薄膜上添加缓冲层,获得目标基底;S4:将图案化薄膜辅助基底与所述目标基底相对压合,使图案化薄膜接触并粘结在所述缓冲层上;S5:分离出辅助基底,完成图案化薄膜由辅助基底到目标基底的转印过程,获得图案化薄膜目标基底;S6:对所述图案化薄膜目标基底加热,待所述塑料薄膜塑性增大至可在真空压力下变形后,将所述图案化薄膜目标基底移至三维模具上,所述三维模具位于压力平台上,利用真空压力吸附或高压,使图案化薄膜目标基底变形后贴附在三维模具表面,成为与三维模具表面形貌相同的三维表面顺形或共形图案。
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