[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置在审
| 申请号： | 201610258014.2 | 申请日： | 2016-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN105676550A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 刘晓那 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，涉及显示领域，解决现有像素边缘暗区面积过大的问题，进而实现透过率提升，提升液晶光效。包括：狭缝电极，所述狭缝电极的狭缝一端开口。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括：狭缝电极，其特征在于，所述狭缝电极的狭缝一端开口。
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