[发明专利]局部背场N型光伏电池的制备方法及其电池和组件、系统在审
申请号: | 201610261324.X | 申请日: | 2016-04-26 |
公开(公告)号: | CN105845776A | 公开(公告)日: | 2016-08-10 |
发明(设计)人: | 林建伟;季根华;刘志锋;孙玉海;张育政 | 申请(专利权)人: | 泰州中来光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/042 |
代理公司: | 北京金之桥知识产权代理有限公司 11137 | 代理人: | 林建军;刘卓夫 |
地址: | 225500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种局部背场N型光伏电池的制备方法及其电池和组件、系统。本发明的一种局部背场N型光伏电池的制备方法,包括以下步骤:在N型晶体硅基体的背表面设置掩膜夹具,掩膜夹具具有背面副栅图案形状的开口,在开口处注入磷并进行退火处理,形成局部n+掺杂区域;然后在N型晶体硅基体的背表面使用金属浆料印刷背面电极,背面电极的背面副栅与局部n+掺杂区域连接;在N型晶体硅基体的正表面使用金属丝制备与p+掺杂区域欧姆接触的正面电极。其有益效果是:由于背面副栅仅和局部n+掺杂区域接触,所以接触电阻低;其他区域为不掺杂,所以俄歇复合低;通过设置金属丝来形成正面副栅,极大的减少电池的银浆消耗,从而降低电池片的制作成本。 | ||
搜索关键词: | 局部 型光伏 电池 制备 方法 及其 组件 系统 | ||
【主权项】:
一种局部背场N型光伏电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)、对N型晶体硅基体的正表面进行掺杂处理,形成p+掺杂区域;(2)、在N型晶体硅基体的背表面设置掩膜夹具,所述掩膜夹具具有背面副栅图案形状的开口,在N型晶体硅基体的背表面注入磷并进行退火处理,形成局部n+掺杂区域;(3)、在N型晶体硅基体的正表面制备钝化减反膜并在背表面制备钝化膜,然后在N型晶体硅基体的背表面使用金属浆料印刷背面电极,背面电极的背面副栅与局部n+掺杂区域连接;在N型晶体硅基体的正表面使用金属丝制备与p+掺杂区域欧姆接触的正面电极,烧结后完成局部背场N型太阳能电池的制备。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的