[发明专利]碳化硼基复相陶瓷及其放电等离子烧结制备方法在审
申请号: | 201610261949.6 | 申请日: | 2016-04-25 |
公开(公告)号: | CN105924176A | 公开(公告)日: | 2016-09-07 |
发明(设计)人: | 李云凯;程兴旺;侯桂芹;孙川;杭晓聪 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | C04B35/563 | 分类号: | C04B35/563;C04B35/64 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 周蜜;仇蕾安 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种碳化硼基复相陶瓷及其放电等离子烧结制备方法,属于复相陶瓷材料制备领域。所述复相陶瓷原料组成及质量百分数如下:铝15~25%,氧化硼20~35%,石墨1.7~3%,碳化硼40%~62%。所述方法如下:将原料进行球磨混合、干燥和过筛,制成混合粉体;采用放电等离子体烧结技术,将混合粉体放入石墨模具,在真空下从室温开始加热、加压,加压至35~45MPa,保持压力至烧结结束,以100℃/min升温至1600~1850℃烧结,保温5~30min;烧结结束,脱模,得到所述复相陶瓷。所述复相陶瓷制备成本较低、致密度高,力学性能好。 | ||
搜索关键词: | 碳化 硼基复相 陶瓷 及其 放电 等离子 烧结 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种碳化硼基复相陶瓷,其特征在于:以所述复相陶瓷原料的总体质量为100%计,各组成成分及其质量百分含量如下:
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