[发明专利]金纳米井阵列电极及其制备方法有效
申请号: | 201610263223.6 | 申请日: | 2016-04-26 |
公开(公告)号: | CN105929002B | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 曹立新;梁晨希;李小龙;刘海萍;毕四富 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学(威海) |
主分类号: | G01N27/327 | 分类号: | G01N27/327 |
代理公司: | 威海科星专利事务所 37202 | 代理人: | 王元生 |
地址: | 264200 *** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种金纳米井阵列电极及其制备方法,其包括有金纳米管阵列主体、金纳米柱阵列底片、集电体,所述金纳米管阵列主体是在模孔直径为400‑800nm的聚碳酸酯滤膜上化学沉积金制成的,金纳米管的壁厚为50‑200nm;金纳米柱阵列底片是在模孔直径为80‑200nm的聚碳酸酯滤膜上化学沉积金制成的;金纳米柱阵列底片通过导电胶粘结固定在集电体上,金纳米管阵列主体平铺覆盖在金纳米柱阵列底片上,周边用绝缘胶带密封固定在集电体上,得到金纳米井阵列电极。本发明组成结构简单、合理,连接可靠、稳定,具有三维结构,表面积大,能够实现检测体系的微型化和集成化,有效避免不同材质导致的电化学响应信号的干扰。 | ||
搜索关键词: | 金纳米管 金纳米柱 底片 阵列主体 集电体 井阵列 电极 聚碳酸酯滤膜 化学沉积 模孔 制备 微型化 电化学响应 绝缘胶带 密封固定 三维结构 粘结固定 组成结构 导电胶 集成化 壁厚 平铺 检测 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种金纳米井阵列电极,其包括有金纳米管阵列主体、金纳米柱阵列底片、集电体,其特征在于:所述金纳米管阵列主体是在模孔直径为400‑800nm的聚碳酸酯滤膜上化学沉积金制成的,其中模孔中沉积有金纳米管,金纳米管的壁厚为50‑200nm;所述金纳米柱阵列底片是在模孔直径为80‑200nm的聚碳酸酯滤膜上化学沉积金制成的,其中模孔中沉积有实心的金纳米柱,滤膜上下表面为镀金膜;所述金纳米柱阵列底片通过导电胶粘结固定在集电体上,金纳米管阵列主体平铺覆盖在金纳米柱阵列底片上,周边用绝缘胶带密封固定在集电体上,得到金纳米井阵列电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学(威海),未经哈尔滨工业大学(威海)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610263223.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。