[发明专利]金纳米井阵列电极及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610263223.6 申请日: 2016-04-26
公开(公告)号: CN105929002B 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 曹立新;梁晨希;李小龙;刘海萍;毕四富 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学(威海)
主分类号: G01N27/327 分类号: G01N27/327
代理公司: 威海科星专利事务所 37202 代理人: 王元生
地址: 264200 *** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种金纳米井阵列电极及其制备方法,其包括有金纳米管阵列主体、金纳米柱阵列底片、集电体,所述金纳米管阵列主体是在模孔直径为400‑800nm的聚碳酸酯滤膜上化学沉积金制成的,金纳米管的壁厚为50‑200nm;金纳米柱阵列底片是在模孔直径为80‑200nm的聚碳酸酯滤膜上化学沉积金制成的;金纳米柱阵列底片通过导电胶粘结固定在集电体上,金纳米管阵列主体平铺覆盖在金纳米柱阵列底片上,周边用绝缘胶带密封固定在集电体上,得到金纳米井阵列电极。本发明组成结构简单、合理,连接可靠、稳定,具有三维结构,表面积大,能够实现检测体系的微型化和集成化,有效避免不同材质导致的电化学响应信号的干扰。
搜索关键词: 金纳米管 金纳米柱 底片 阵列主体 集电体 井阵列 电极 聚碳酸酯滤膜 化学沉积 模孔 制备 微型化 电化学响应 绝缘胶带 密封固定 三维结构 粘结固定 组成结构 导电胶 集成化 壁厚 平铺 检测 覆盖
【主权项】:
1.一种金纳米井阵列电极,其包括有金纳米管阵列主体、金纳米柱阵列底片、集电体,其特征在于:所述金纳米管阵列主体是在模孔直径为400‑800nm的聚碳酸酯滤膜上化学沉积金制成的,其中模孔中沉积有金纳米管,金纳米管的壁厚为50‑200nm;所述金纳米柱阵列底片是在模孔直径为80‑200nm的聚碳酸酯滤膜上化学沉积金制成的,其中模孔中沉积有实心的金纳米柱,滤膜上下表面为镀金膜;所述金纳米柱阵列底片通过导电胶粘结固定在集电体上,金纳米管阵列主体平铺覆盖在金纳米柱阵列底片上,周边用绝缘胶带密封固定在集电体上,得到金纳米井阵列电极。
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