[发明专利]反射式单级衍射光栅及其制造方法在审
| 申请号： | 201610266673.0 | 申请日： | 2016-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN107315211A | 公开（公告）日： | 2017-11-03 |
| 发明（设计）人： | 朱效立;谢常青;刘明;牛洁斌;华一磊;施百龄 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人： | 张瑾 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种反射式单级衍射光栅及其制造方法。所述反射式单级衍射光栅在基底上随机分布光栅图形，所述光栅图形为由两层材料组成的深槽结构，所述深槽结构的下层材料为硅基底，上层材料为高反射率膜层，所述深槽结构的深度和宽度之比值大于0.5。本发明能够有效抑制反射式单级衍射光栅的高级次衍射。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 式单级 衍射 光栅 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种反射式单级衍射光栅，其特征在于，基底上随机分布光栅图形，所述光栅图形为由两层材料组成的深槽结构，所述深槽结构的下层材料为硅基底，上层材料为高反射率膜层，所述深槽结构的深度和宽度之比值大于0.5。
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