[发明专利]一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法在审
| 申请号： | 201610267769.9 | 申请日： | 2016-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN105821453A | 公开（公告）日： | 2016-08-03 |
| 发明（设计）人： | 汝娟坚;华一新;武腾;徐存英;李坚;张启波;李艳;熊礼 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C25D3/66 | 分类号： | C25D3/66 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法，涉及表面工程和表面处理技术。在惰气环境下，首先在电解槽中加入低共熔溶剂，然后向低共熔溶剂中加入氧化铬，制备得到低共熔溶剂电解液；以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在上述步骤制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积，将电积后的基体经丙酮、蒸馏水冲洗，干燥后即可在基体上得到一层亮铬镀层。本发明制得的亮铬镀层光亮致密平整，与基体结合能力强，耐磨性及耐腐蚀性优异。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低共熔 溶剂 沉积 镀层 方法 | ||
【主权项】：
一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法，其特征在于具体步骤如下：（1）在惰气环境下，首先将季铵盐与酰胺按照摩尔比为（2~5）：（1~3）混合均匀后形成低共熔溶剂，然后向温度为20~80℃的低共熔溶剂中加入氧化铬，制备得到低共熔溶剂电解液；（2）以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在控制电解液温度为40~80℃、槽电压为2.0~2.6V、阳极与阴极距离为0.5~2cm的条件下，在步骤（1）制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积0.5~3h，将电积后的阴极基体经丙酮、蒸馏水冲洗，干燥后即能在阴极基体上得到一层光亮铬镀层。
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