[发明专利]一种硅晶片清洗剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201610268016.X | 申请日： | 2016-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN105907489A | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 项涛;项武 | 申请（专利权）人： | 安庆友仁电子有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/86 | 分类号： | C11D1/86;C11D3/60;C11D3/10;C11D3/04;C11D3/08;C11D3/33;C11D3/37;C11D3/30;C11D3/20 |
| 代理公司： | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人： | 程笃庆;黄乐瑜 |
| 地址： | 246500 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅晶片清洗剂，其原料按重量份包括：氢氧化钠3‑9份、无水碳酸钠2‑8份、偏硅酸钠3‑9份、乙二胺四乙酸二钠5‑8份、琥珀酸二辛酯磺酸钠2‑6份、OP‑10 2‑5份、十二烷基苯磺酸钠4‑9份、全氟己基乙酸盐表面活性剂3‑9份、10‑三氟甲氧基癸烷磺酸钠2‑7份、全氟己基乙基甲基二羟乙基碘化铵1‑4份、吐温80 4‑9份、聚乙二醇3‑6份、三乙醇胺1‑3份、正丁醇2‑5份、异丙醇1‑4份、去离子水10‑20份。本发明还提出上述的硅晶片清洗剂的制备方法。本发明具有优异的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种硅晶片清洗剂，其特征在于，其原料按重量份包括：氢氧化钠3‑9份、无水碳酸钠2‑8份、偏硅酸钠3‑9份、乙二胺四乙酸二钠5‑8份、琥珀酸二辛酯磺酸钠2‑6份、OP‑10 2‑5份、十二烷基苯磺酸钠4‑9份、全氟己基乙酸盐表面活性剂3‑9份、10‑三氟甲氧基癸烷磺酸钠2‑7份、全氟己基乙基甲基二羟乙基碘化铵1‑4份、吐温80 4‑9份、聚乙二醇3‑6份、三乙醇胺1‑3份、正丁醇2‑5份、异丙醇1‑4份、去离子水10‑20份。
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