[发明专利]一种低温下制备钽表面钨功能涂层的方法有效
申请号: | 201610272362.5 | 申请日: | 2016-04-28 |
公开(公告)号: | CN105714243B | 公开(公告)日: | 2019-05-28 |
发明(设计)人: | 张厚安;麻季冬;廉冀琼;古思勇;付明;陈莹 | 申请(专利权)人: | 厦门理工学院 |
主分类号: | C23C10/36 | 分类号: | C23C10/36 |
代理公司: | 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 | 代理人: | 魏思凡 |
地址: | 361024 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种低温下制备钽表面钨功能涂层的方法,包括以下步骤:S1,将基体表面抛光处理,所述基体包括钽、钽合金或其组合;S2,将抛光后的基体埋入包埋渗剂中反应,其中包埋温度为240‑280℃,保温时间为1‑8h,所述包埋渗剂包括均匀分散的WCl6粉、活化剂和Al2O3粉,且所述包埋渗剂中WCl6粉的比例为30‑50wt.%;S3,保温结束后,清洗包埋后的基体并真空干燥。本发明采用包埋法,基体与包埋渗剂在240‑280℃发生扩散反应,从而制得钨功能涂层。基体与钨功能涂层结合好,具有功能涂层均匀致密的优点,且无需采用高温或加压的方法获得涂层,降低了对设备的要求,适合规模化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 低温 制备 表面 功能 涂层 方法 | ||
【主权项】:
1.一种低温下制备钽表面钨功能涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,将基体表面抛光处理,所述基体包括钽、钽合金或其组合;S2,将抛光后的基体埋入包埋渗剂中反应,其中包埋温度为240‑280℃,保温时间为1‑8h,所述包埋渗剂包括均匀分散的WCl6粉、活化剂和Al2O3粉,且所述包埋渗剂中WCl6粉的比例为30‑50wt.%;所述活化剂的比例为10‑15wt.%,所述Al2O3粉的比例为35‑60wt.%;S3,保温结束后,清洗包埋后的基体并真空干燥。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理,例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
C23C10-18 .使用液体,例如盐浴、悬浮液的
C23C10-28 .使用固体,例如粉末、膏剂的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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