[发明专利]一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构

摘要

本发明提出一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，包括ZnS基片和分色膜膜系；分色膜膜系由三种薄膜材料制成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧化锆膜层，第2层到第50层中的偶数层为氟化镱膜层、奇数层为硫化锌膜层。在0.5～0.8μm波段，透过率小于2％；在1.064μm激光波段，透过率小于1％；在3.7～4.8μm中波红外波段透射率大于95％。该膜系结构具有层数少、厚度小、镀制难度相对较低、工艺重复性好的特点，获得的膜层牢固度高，光谱性能优良，能够满足多波段共窗口光电系统的使用要求，满足45°倾斜条件下工作要求，并能经受住高、低温存储，温度冲击等环境试验，附着力试验及中度摩擦试验。

主权项

一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，其特征在于：包括ZnS基片和分色膜膜系；所述分色膜膜系由三种薄膜材料制备的膜层叠加构成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧化锆膜层，第2层到第50层中的偶数层为氟化镱膜层、奇数层为硫化锌膜层；第1层镀制在ZnS基片上；各膜层厚度为：