[发明专利]反0.532μm及1.064μm、透0.6μm-0.9μm光谱分光膜的膜系结构有效
| 申请号： | 201610273593.8 | 申请日： | 2016-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN105842768B | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 赵兴梅;董莹 | 申请（专利权）人： | 西安应用光学研究所 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B5/26;C03C17/34 |
| 代理公司： | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人： | 陈星 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提出一种反0.532μm及1.064μm、透0.6μm‑0.9μm光谱分光膜的膜系结构，包括透明基片和分光膜膜系，分光膜膜系由两种薄膜材料H和二氧化硅，按照结构Glass|(2/3H4/3SiO2)m|Air或Glass|(4/3H2/3SiO2)m|Air制备得到，其中薄膜材料H为二氧化钛、二氧化锆或五氧化二钽，m为重复周期；分光膜膜系中的部分膜层采用非极值层。该膜系结构对0.532μm及1.064μm的激光高反射，对0.6μm‑0.9μm的光高透过，并且能经受住高、低温存储，温度冲击等环境试验，附着力试验及中度摩擦试验。 | ||
| 搜索关键词： | 0.532 1.064 0.6 0.9 光谱 分光 结构 | ||
【主权项】：
1.一种反0.532μm及1.064μm、透0.6μm‑0.9μm光谱分光膜的膜系结构，包括透明基片和分光膜膜系，其特征在于：分光膜膜系由二氧化钛和二氧化硅，按照结构Glass|(2/3H4/3SiO2)m|Air制备得到，其中薄膜材料H为二氧化钛，m＝12；镀制在透明基片上的第一膜层以及第2m膜层为非极值膜层；第一膜层厚度为158.2mm，第2m膜层厚度为121.8mm，其余偶数膜层厚度为245.2mm，奇数膜层厚度为83.3mm。
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