[发明专利]光学指纹识别装置的形成方法有效

专利信息
申请号: 201610275911.4 申请日: 2016-04-29
公开(公告)号: CN105956545B 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 赵立新;陈俭;夏欢 申请(专利权)人: 格科微电子(上海)有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种光学指纹识别装置的形成方法,包括:提供硅基板,于硅基板上形成凹槽阵列;提供透光基板、图像传感器芯片,键合透光基板与图像传感器芯片,通过渐变通光量光刻方法于透光基板上形成透镜阵列,所述透镜阵列对应于图像传感器芯片的感光阵列;将硅基板的凹槽面与透光基板键合,所述凹槽阵列对应于所述透镜阵列,刻蚀硅基板的非凹槽面以暴露出所述透镜阵列,并且于相邻透镜之间形成硅光栏。本发明的光学指纹识别装置的形成方法,通过渐变通光量光刻方法形成透镜阵列,可满足更为精细、复杂的透镜制作要求,准确保证光学指纹识别装置所需的光学特性,适用于便携式电子设备,且与现有的芯片制作和封装工艺兼容,以降低成本。
搜索关键词: 光学 指纹识别 装置 形成 方法
【主权项】:
一种光学指纹识别装置的形成方法,其特征在于,包括:提供硅基板,于硅基板上形成凹槽阵列;提供透光基板、图像传感器芯片,键合透光基板与图像传感器芯片,通过渐变通光量光刻方法于透光基板上形成透镜阵列,所述透镜阵列对应于图像传感器芯片的感光阵列;将硅基板的凹槽面与透光基板键合,所述凹槽阵列对应于所述透镜阵列,刻蚀硅基板的非凹槽面以暴露出所述透镜阵列,并且于相邻透镜之间形成硅光栏。
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