[发明专利]一种电感耦合等离子处理装置及其控制方法

摘要

本发明提供一种电感耦合等离子处理装置，所述电感耦合等离子处理装置的电感线圈包括多个子线圈，每个子线圈覆盖下方绝缘材料窗的不同区域；一个射频电源通过匹配电路连接到所述多个子线圈的输入端，每个子线圈包括输出端电连接到地，一个控制器控制输入所述多个子线圈的功率，其特征在于，所述控制器控制所述电感线圈的多个子线圈轮流执行的多个处理阶段，在所述处理阶段中至少一个子线圈的输入功率高于其它子线圈的输入功率。

主权项

1.一种电感耦合等离子处理装置，所述电感耦合等离子处理装置包括反应腔，反应腔内下方包括一个基座，基座上设置有待处理基片，反应腔顶部包括绝缘材料窗，绝缘材料窗上方设置有电感线圈，所述电感线圈包括多个子线圈，每个子线圈覆盖下方绝缘材料窗的不同区域；至少一个射频电源通过匹配电路连接到所述多个子线圈的输入端，每个子线圈还包括输出端电连接到地，一个控制器控制输入到所述多个子线圈的功率，其特征在于，所述控制器使得分配到所述多个子线圈的功率在多个处理阶段之间变化，在每个处理阶段内，所述控制器选择至少一个子线圈构成第一子线圈集，电感线圈中的其它子线圈构成第二子线圈集，输入第一功率到所述第一子线圈集，同时输入到第二子线圈集的功率小于所述第一功率，相邻处理阶段内，不同的子线圈构成不同的所述第一子线圈集，循环进行的多个处理阶段使得每个子线圈具有相同的平均输入功率。