[发明专利]一种AlGaInP发光二极管有效
申请号: | 201610276669.2 | 申请日: | 2016-04-29 |
公开(公告)号: | CN105742433B | 公开(公告)日: | 2018-03-02 |
发明(设计)人: | 郑元宇;郑建森;伍明跃;周启伦;邱财华;罗宵;林峰;李水清;吴超瑜;蔡坤煌 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/26 |
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地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种AlGaInP发光二极管,从下至上依次包括衬底,DBR反射层,N型半导体层,量子阱发光层,P型半导体层,过渡层和P型电流扩展层,所述DBR反射层采用多谱掺杂;所述P型半导体层包括与量子阱发光层相邻的第一P型半导体层以及与过渡层相邻的第二P型半导体层组成,所述第二P型半导体层的掺杂浓度小于所述第一P型半导体层。通过提升多谱DBR掺杂浓度有利于电流在DBR反射层中扩展,提升老化性能;通过降低与过渡层相邻段的P型半导体掺杂层,与过渡层形成浓度差,用于平衡过渡层掺杂,避免过渡层高掺杂在长时间老化中引入的非辐射复合增加,导致光衰,进一步提升老化性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 algainp 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种AlGaInP发光二极管,从下至上依次包括衬底,DBR反射层,N型半导体层,量子阱发光层,P型半导体层,过渡层和P型电流扩展层,其特征在于:所述DBR反射层采用多谱掺杂,包括第一DBR反射层,第二DBR反射层,第三DBR反射层,第一DBR反射层掺杂浓度高于第二DBR反射层,第二DBR反射层掺杂浓度高于第三DBR反射层;所述P型半导体层包括与量子阱发光层相邻的第一P型半导体层以及与过渡层相邻的第二P型半导体层组成,所述第二P型半导体层的掺杂浓度小于所述第一P型半导体层。
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