[发明专利]外延设备在审

专利信息
申请号: 201610278856.4 申请日: 2016-04-29
公开(公告)号: CN107326433A 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 季文明;林志鑫;刘源;保罗·邦凡蒂 申请(专利权)人: 上海新昇半导体科技有限公司
主分类号: C30B25/08 分类号: C30B25/08;C30B25/10;H01L21/67
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 金华
地址: 201306 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种外延设备,包括反应腔体、位于反应腔体上部的盖板以及位于反应腔体下部的托盘,通过冷却水进出口在空心中通入冷却水,用于在生长外延层的过程中降低整个反应腔室的温度,防止外延设备各部件长时间承受高温,从而能够一次生长相对较厚的外延层,并且不影响外延设备的性能及机台产能;使用射频加热线圈代替现有技术中的加热灯管,并将射频加热线圈设置为空心,在其中通入冷却水,以防止射频加热线圈的温度过高;将腔室盖板的一部分设置为透明材质,在盖板上形成可视窗口,从而采用红外测温装置替换目前使用的热电阻测温,红外测温装置的探头在所述可视窗口上自由移动,能够测量整个晶圆内的温度分布。
搜索关键词: 外延 设备
【主权项】:
一种外延设备,包括反应腔体、位于所述反应腔体上部的盖板以及位于所述反应腔体下部的托盘,其特征在于,所述反应腔体设置为空心结构,并设置有冷却水进出口,在空心中通入有冷却水。
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