[发明专利]透镜移动装置以及包括该装置的相机模块和光学设备有效

专利信息
申请号: 201610282618.0 申请日: 2016-04-29
公开(公告)号: CN106101494B 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 朴相沃;李准泽;孙秉旭;闵相竣;刘庚皓 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/232;G02B7/09;G03B13/36;H02K41/035
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏金霞;王艳江
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种透镜移动装置,该透镜移动装置包括:线圈架,该线圈架包括布置在线圈架的外周表面上的第一线圈;壳体,该壳体设置有用于通过与第一线圈相互作用而移动线圈架的第一磁体和第二磁体;上弹性构件和下弹性构件,上弹性构件和下弹性构件各自联接至线圈架和壳体两者;以及第一位置传感器,该第一位置传感器用于检测第一磁体和第二磁体的磁场强度之和,其中,当线圈架布置在初始位置处时,第一位置传感器布置在位于第一磁体与第二磁体之间的空间中。
搜索关键词: 透镜 移动 装置 以及 包括 相机 模块 光学 设备
【主权项】:
一种透镜移动装置,包括:线圈架,所述线圈架包括布置在所述线圈架的外周表面上的第一线圈;壳体,所述壳体设置有用于通过与所述第一线圈相互作用而使所述线圈架移动的第一磁体和第二磁体;上弹性构件和下弹性构件,所述上弹性构件和所述下弹性构件各自联接至所述线圈架和所述壳体两者;以及第一位置传感器,所述第一位置传感器用于检测所述第一磁体的磁场强度和所述第二磁体的磁场强度之和,其中,当所述线圈架布置在初始位置处时,所述第一位置传感器布置在位于所述第一磁体与所述第二磁体之间的空间中。
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