[发明专利]一种激光表面重熔与化学脱合金复合制备微纳米结构块体硅材料的方法有效

专利信息
申请号: 201610282682.9 申请日: 2016-05-02
公开(公告)号: CN105948058B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 黄婷;孙丁月;肖荣诗;杨武雄 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 刘萍
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种激光表面重熔与化学脱合金复合制备微纳米结构块体硅材料的方法,其特征是:采用激光对铝硅合金进行表面重熔处理,然后将表面重熔层切割下来,最后采用腐蚀剂对重熔层进行脱合金处理,去掉元素铝,最终获得微纳米结构块体硅材料(图1)。该方法操作简单,周期短,效率高,常温下可进行,制备出的块体硅材料可用于太阳能电池、锂离子电池、生物学等诸多领域。
搜索关键词: 一种 激光 表面 化学 合金 复合 制备 纳米 结构 块体 材料 方法
【主权项】:
一种激光表面重熔与化学脱合金复合制备微纳米结构块体硅材料的方法,其特征是:采用激光对铝硅合金进行表面重熔处理,然后将表面重熔层切割下来得到前驱体合金材料,最后采用腐蚀剂对重熔处理得到的前驱体合金材料进行脱合金处理,去掉元素铝,最终获得微纳米结构块体硅材料。
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