[发明专利]一种陶瓷-金属复合基板制备工艺有效
申请号: | 201610283005.9 | 申请日: | 2016-05-03 |
公开(公告)号: | CN105845583B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 王文君;王双喜;张丹;欧阳雪琼 | 申请(专利权)人: | 佛山市百瑞新材料技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种陶瓷‑金属复合基板制备工艺,涉及电子封装领域。该复合材料基板由陶瓷片、金属粘结层和金属基板组成,其特征在于所述的制备工艺为,首先在陶瓷片和金属片的一面分别制备出带一定间距和尺寸的纳米棒阵列结构,然后向纳米棒表面沉积或化学镀低熔点金属或合金,最后将两个带纳米棒的表面在低温下叠合压紧,纳米棒与纳米棒在压力的作用下,相互交错插入,纳米棒表面低熔点金属相互渗透扩散形成熔化状态的共晶合金熔体,随后在室温下固化形成结构致密结合牢固的金属粘接层。本发明制备的陶瓷‑金属复合基板不仅导热性能、绝缘性能好,与芯片的热匹配性能优良,而且可实现陶瓷与金属在低温甚至常温下直接粘合,粘接强度高,制备工艺简单,适合大批量生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 金属 复合 制备 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种陶瓷‑金属复合基板制备工艺,该复合基板由陶瓷片(1)、金属粘接层(2)和金属基板(3)组成,其特征在于所述的一种陶瓷‑金属复合材料基板制备工艺包括以下步骤:1)首先,对陶瓷片(1)和金属基板(3)的单面分别进行抛光及清洁处理;2)在金属基板(3)及陶瓷片(1)的抛光表面上制备出一层纳米棒阵列结构;3)分别在两纳米棒表面形成一层低熔点金属;4)将带纳米棒的陶瓷片(1)和带纳米棒的金属基板(3)在一定的温度及压力下进行叠合压紧;5)最后经过后处理即可制得陶瓷‑金属复合基板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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