[发明专利]光刻设备运动台驱动结构及控制系统在审

专利信息
申请号: 201610284237.6 申请日: 2016-04-29
公开(公告)号: CN107329372A 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 夏海;李进春;李新振 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅,李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明在提供了一种光刻设备运动台驱动结构及控制系统,其中,光刻设备运动台驱动结构包括驱动平台、多个第一导轨、第二导轨、至少一个支撑导轨以及曝光台;所述第一导轨和支撑导轨沿第一方向排列固定于所述驱动平台上,所述支撑导轨位于所述多个第一导轨之间,所述第二导轨沿第二方向设置,并连接于所述第一导轨和支撑导轨,所述第二导轨在所述第一导轨和支撑导轨上自由滑动和制动,所述曝光台位于所述第二导轨上,并沿所述第二导轨滑动。在多个第一导轨之间增加至少一个支撑导轨,避免了由于曝光台承载大质量器件而造成的驱动结构的变形。同时采用包括冗余增益转换器在内的控制系统来抑制所述驱动结构的模态,有效的提高了控制精度。
搜索关键词: 光刻 设备 运动 驱动 结构 控制系统
【主权项】:
一种光刻设备运动台驱动结构,其特征在于,包括:驱动平台、多个第一导轨、第二导轨、至少一个支撑导轨以及曝光台;其中,所述第一导轨和支撑导轨沿第一方向排列固定于所述驱动平台上,所述支撑导轨位于所述多个第一导轨之间,所述第二导轨沿第二方向设置,并连接于所述第一导轨和支撑导轨,所述第二导轨在所述第一导轨和支撑导轨上自由滑动和制动,所述曝光台位于所述第二导轨上,并沿所述第二导轨滑动。
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