[发明专利]Cu掺杂ZnO为有源层的ZnO‑GaN组合紫外发光管及其制备方法有效
申请号: | 201610285795.4 | 申请日: | 2016-05-03 |
公开(公告)号: | CN105720148B | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 杜国同;梁红伟;董鑫;夏晓川;包俊飞 | 申请(专利权)人: | 金华吉大光电技术研究所有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/26;H01L33/28;H01L33/00 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司22201 | 代理人: | 刘世纯,王恩远 |
地址: | 321016 浙江省金华市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明属于半导体发光器件及其制备技术领域,涉及两种Cu掺杂ZnO为有源层的ZnO‑GaN組合紫外发光管及其制备方法。器件由衬底、在衬底上外延生长的p型GaN空穴注入层,空穴注入层上制备的n‑ZnO电子注入层和下电极,电子注入层上面制备的上电极等部件构成,其特征在于在p型GaN空穴注入层和n‑ZnO电子注入层之间还制备有Cu掺杂的ZnO有源层。本发明可实现ZnO带边的紫外发光,并可比ZnO‑GaN简单组合发光管提高输出功率,进一步拓展器件的应用范围。 | ||
搜索关键词: | cu 掺杂 zno 有源 gan 组合 紫外 发光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种Cu掺杂ZnO为有源层的ZnO‑GaN组合紫外发光管,依次由Al2O3衬底(1)、衬底(1)上表面外延生长的p型GaN空穴注入层(2)、空穴注入层(2)上表面制备的相互分立的n‑ZnO电子注入层(3)和下电极(5)、电子注入层(3)上表面制备的上电极(4)构成,其特征在于:在空穴注入层(2)和n‑ZnO电子注入层(3)之间还制备有Cu掺杂的ZnO有源层(6);p型GaN空穴注入层(2)中载流子空穴的浓度为2×1017~2×1018/cm3,有源层(6)中载流子电子的浓度为2×1015~1.5×1017/cm3,n‑ZnO电子注入层(3)中载流子电子的浓度为5×1017~2×1019/cm3。
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