[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置

摘要

本发明提供了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决采用梳状电极结构的阵列基板光透过率低的问题。其中所述阵列基板的制造方法包括：在衬底基板上依次形成第一导电薄膜和钝化层薄膜；采用一次构图工艺，去除待形成第一电极区域以外的钝化层薄膜和第一导电薄膜，形成钝化层的图形和第一电极的图形；在具有所述钝化层的图形和所述第一电极的图形的衬底基板上形成第二导电薄膜；采用一次构图工艺，去除待形成第二电极区域以外的第二导电薄膜，形成第二电极的图形。上述阵列基板的制造方法用于制造阵列基板。

主权项

1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述阵列基板的制造方法包括：在衬底基板上依次形成第一导电薄膜和钝化层薄膜；采用一次构图工艺，去除待形成第一电极区域以外的钝化层薄膜和第一导电薄膜，形成钝化层的图形和第一电极的图形；在具有所述钝化层的图形和所述第一电极的图形的衬底基板上形成第二导电薄膜；采用一次构图工艺，去除待形成第二电极区域以外的第二导电薄膜，形成第二电极的图形；所述第一电极和所述第二电极均为梳状电极，所述第一电极的多个梳齿在所述衬底基板上的垂直投影与所述第二电极的多个梳齿在所述衬底基板上的垂直投影交替排布，所述第一电极的多个梳齿在所述衬底基板上的垂直投影的端部与所述第二电极的梳柄部分在所述衬底基板上的垂直投影之间的间隙小于6μm，且所述第二电极的多个梳齿在所述衬底基板上的垂直投影的端部与所述第一电极的梳柄部分在所述衬底基板上的垂直投影之间的间隙小于6μm。