[发明专利]一种光学芯片、制作方法及荧光成像系统在审
| 申请号： | 201610287518.7 | 申请日： | 2016-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN105866086A | 公开（公告）日： | 2016-08-17 |
| 发明（设计）人： | 邱冬;张斗国;王茹雪;朱良富;王沛;明海 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学芯片、制作方法及荧光成像系统，所述光学芯片基于Tamm耦合发射实现定向出射，所述光学芯片包括：透明基底；位于所述透明基底一表面的布拉格反射层；以及，位于所述布拉格反射层背离所述透明基底一侧的金属膜层；其中，所述金属膜层形成有至少一个通孔，且所述通孔内填充有荧光分子。本发明提供的技术方案，利用布拉格反射层和金属膜层之间产生Tamm等离激元，与荧光分子被激发后出射的荧光耦合，以形成Tamm模式的耦合出射，实现荧光的定向出射；并且对于特定波长的荧光，由于波矢分量很小，能够实现接近垂直于表面的方向出射，本发明提供的光学芯片不仅结构简单，而且加工成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 芯片 制作方法 荧光 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种光学芯片，所述光学芯片基于Tamm耦合发射实现定向出射，其特征在于，所述光学芯片包括：透明基底；位于所述透明基底一表面的布拉格反射层；以及，位于所述布拉格反射层背离所述透明基底一侧的金属膜层；其中，所述金属膜层形成有至少一个通孔，且所述通孔内填充有荧光分子。
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