[发明专利]一种量子点发光二极管及其制备方法在审
申请号: | 201610287986.4 | 申请日: | 2016-05-04 |
公开(公告)号: | CN105826483A | 公开(公告)日: | 2016-08-03 |
发明(设计)人: | 刘佳;曹蔚然;杨一行;钱磊 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种量子点发光二极管及其制备方法。制备方法包括步骤:A、在ITO基板上旋涂一层非酸性亲油性有机物,然后进行加热退火;B、在所述非酸性亲油性有机物表面旋涂PEDOT:PSS作为空穴注入层,然后进行加热退火;C、在空穴注入层上旋涂一层空穴传输材料作为空穴传输层,然后进行热处理;D、将量子点发光层沉积在空穴传输层表面,然后进行热处理;E、在量子点表面依次沉积电子传输层和电子注入层;F、在沉积完各功能层的ITO基板上蒸镀阴极。通过本发明,省去了制作过程中紫外氧化处理和氧气等离子处理等工序,简化了工艺步骤。并且能够更好地陷入空穴,增强空穴注入能力,从而提高QLED发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 量子 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括步骤:A、在ITO基板上旋涂一层非酸性亲油性有机物,然后进行加热退火;B、在所述非酸性亲油性有机物表面旋涂PEDOT:PSS作为空穴注入层,然后进行加热退火;C、在空穴注入层上旋涂一层空穴传输材料作为空穴传输层,然后进行热处理;D、将量子点发光层沉积在空穴传输层表面,然后进行热处理;E、在量子点表面依次沉积电子传输层和电子注入层;F、在沉积完各功能层的ITO基板上蒸镀阴极。
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